超純水是半導體、精密電子制造等領域的核心工藝介質，水質潔凈度直接關聯制程穩定性與產品良率。超純水在制備、儲存、輸送全過程中，易因濾芯損耗、管道析出、環境浮塵等因素混入微納米級固體顆粒，這類微小污染物無法通過電阻率、電導率等常規水質指標檢出，僅能依托專業顆粒檢測設備完成量化監測。雙激光微納米顆粒檢測技術的落地應用，彌補了傳統單激光檢測設備在微小顆粒識別、抗干擾能力上的短板，成為當下超純水水質管控的主流技術方案。普洛帝PMT-2超純水版顆粒計數器，依托專屬雙激光檢測架構與適配純水介質的硬件設計，針對性匹配超純水微量顆粒檢測需求，廣泛適配半導體全流程水質監測場景。

超純水檢測意義

半導體制造對超純水純度有著嚴苛標準，芯片蝕刻、晶圓清洗、光刻等核心工序，均以超純水作為清洗、溶劑介質。水體中存在的0.1μm及以上微納米顆粒，會附著在晶圓表面，造成電路短路、圖案缺陷、鍍膜不均等問題，大幅降低芯片良品率。不同于普通工業用水，超純水雜質含量極低，污染物以微量超細顆粒為主，常規水質檢測設備僅能監測離子、有機物等指標，無法捕捉懸浮固體顆粒。

常態化顆粒檢測可實時掌握超純水制備系統、輸送管路、儲水系統的運行狀態，及時發現濾芯老化、管道污染、設備滲漏等潛在問題，保障制程用水水質穩定。在半導體規模化生產中，穩定的超純水潔凈度管控，能夠減少制程異常波動，降低生產損耗，為精密制造流程提供基礎水質保障，契合行業標準化生產管控要求。

技術原理

普洛帝PMT-2超純水版搭載第八代雙激光窄光檢測器，采用雙光路協同檢測架構，基于光阻法檢測原理完成微納米顆粒計數與粒徑分析。設備兩組激光發射組件輸出穩定窄光束，交叉穿透超純水樣品流通區域，形成固定檢測傳感區域。當水體中的懸浮顆粒隨水樣勻速通過檢測區域時，會遮擋對應光路光束，造成光信號強度衰減。

應用場景

半導體晶圓制造是該設備的核心應用場景，可用于12英寸、8英寸晶圓產線的超純水終端水質監測，覆蓋EDI純水系統、拋光混床、終端輸送管路等關鍵節點，實時監測制程用水中微顆粒含量，保障晶圓清洗、蝕刻、光刻等工序的水質達標。在半導體封裝測試環節，設備可監測清洗超純水的潔凈度，避免顆粒雜質附著芯片引腳、封裝基材，影響產品封裝品質。

同時，設備可適配半導體純水制備車間的日常質控工作，用于新設備調試、濾芯更換前后的水質對比檢測，輔助工作人員評估純水系統運行狀態。此外，在半導體實驗室水質檢測、光伏半導體材料制備等關聯場景，該設備也可完成超純水顆粒污染度檢測，滿足精密制造領域的水質管控需求。設備檢測數據可一鍵導出，用于制程追溯與濾芯性能驗證，適配工業化批量生產的質控管理流程。

依托雙激光檢測技術的穩定表現與純水專屬適配設計，普洛帝PMT-2超純水版顆粒計數器能夠精準匹配半導體行業超純水微量顆粒檢測的核心需求，解決傳統檢測設備抗干擾弱、微小顆粒識別不足的問題，為半導體制程水質穩定管控提供可靠的設備支撐，助力精密制造行業水質質控體系的規范化落地。