光刻膠是半導體光刻工藝的核心材料，其內部微小顆粒雜質會直接造成晶圓光刻缺陷、電路短路等問題，是影響芯片良率的關鍵因素。光刻膠介質具備粘度特殊、成分復雜、油水混合特性明顯等特點，常規顆粒檢測設備難以適配其檢測需求，存在小粒徑顆粒識別不全、介質適配性差、數據誤差大等問題。作為油液顆粒檢測領域技術創新者，普洛帝針對性研發PMT-2光刻膠顆粒計數器，搭載第八代雙激光窄光檢測技術，聚焦0.1μm微納米級顆粒檢測，支持油水雙系介質檢測與定制化功能適配，嚴格遵循ISO4406、NAS1638、GJB420B檢測標準，為光刻膠品質檢測提供專業解決方案。

產品定位

PMT-2光刻膠顆粒計數器是面向半導體光刻材料檢測的專用精細化檢測設備，專為光刻膠、光刻配套介質的微顆粒檢測打造。設備突破傳統檢測設備的介質局限，實現油水雙系介質通用檢測，主打0.1μm微納米級微小顆粒捕捉能力，同時支持功能與參數定制化調整。設備適配光刻膠生產、分裝、存儲、制程使用全流程檢測，可滿足光刻膠出廠質檢、生產線入料檢測、制程在線監測、實驗室抽樣分析等多元化需求，是半導體光刻材料品質管控的專用檢測設備。

核心技術

設備搭載普洛帝第八代雙激光窄光檢測技術，相較于常規激光檢測方案，窄光光路聚焦性更強，光束直徑更精細，可精準定位介質內0.1μm級微納米顆粒。雙激光并行檢測架構，能夠有效規避光刻膠膠體渾濁、成分復雜帶來的光路散射干擾，提升微小顆粒的識別精度與計數準確性，可完整捕捉光刻膠內細微雜質顆粒，避免小粒徑顆粒漏檢。

油水雙系適配技術是該設備的核心優勢之一，通過優化檢測腔體與進樣系統結構，適配油性光刻膠、水性光刻膠及各類配套清洗介質的檢測需求，解決了單一介質檢測設備通用性不足的問題。同時設備支持定制化升級，可根據用戶檢測場景需求，自定義粒徑檢測通道、檢測頻次、數據輸出格式、報警閾值等參數，也可適配特殊粘度光刻膠的檢測調試，貼合不同企業的個性化檢測需求。設備內置智能算法，可自動區分介質雜質顆粒與膠體成分，規避膠體本身特性對檢測結果的干擾，保障數據穩定性。

技術參數表

檢測模式

PMT-2光刻膠顆粒計數器搭載多元化智能檢測模式，可適配不同作業場景的檢測需求。常規抽樣檢測模式適用于實驗室質檢環節，人工取樣后可快速完成顆粒計數、粒徑分布分析，輸出完整檢測報告；連續在線檢測模式可對接光刻膠生產線、輸送管路，實現物料實時不間斷監測，及時捕捉生產過程中的雜質波動；定點抽檢模式可針對光刻膠存儲罐體、分裝工序進行定點取樣檢測，把控存儲與轉運環節的品質變化。同時定制化檢測模式可根據特殊工藝需求，調整檢測邏輯與參數，適配非標檢測場景。所有檢測模式均可自動留存數據，支持溯源查詢，契合工業品質管控規范化要求。

應用場景

半導體芯片制造行業是設備的核心應用場景，可用于晶圓光刻制程中光刻膠的實時檢測，把控光刻膠潔凈度，減少光刻缺陷；光刻膠生產企業可用于產品出廠質檢、生產過程物料監測，管控產品顆粒指標，保障產品品質一致性；半導體封裝測試環節，可檢測光刻輔助介質的雜質含量，規避雜質對封裝精度的影響。此外，設備可適配光電顯示、精密半導體器件、微納加工等行業的光刻類介質檢測，依托油水雙系適配與微納米檢測能力，滿足各類高精度制造場景的介質品質管控需求。

普洛帝PMT-2光刻膠顆粒計數器依托成熟的第八代雙激光窄光技術，突破微納米顆粒檢測難點，兼顧通用性與定制化適配能力，貼合光刻膠行業精細化、規范化的檢測需求。設備嚴格遵循行業通用檢測標準，為半導體光刻材料品質管控、生產工藝優化提供扎實的數據支撐，助力精密制造行業品質升級。